科學家開發出芯片堆疊新工藝
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收藏科技日報訊 (記者劉霞)韓國工業技術研究所和浦項科技大學科學家開發出一項新工藝,能穩定堆疊10余片超薄半導體芯片,由此實現了約4倍於商用高帶寬存儲器(HBM)的集成密度。這一突破有望緩解人工智能(AI)面臨的存儲瓶頸。相關論文發表於新一期《工程成果》雜志。
以ChatGPT、圖像生成AI和自動駕駛為代表的AI服務有一個共同要求:必須以極高速度處理海量數據。為提升AI芯片的性能,科學家不再一味橫向鋪展芯片,而是讓其垂直堆疊,就像城市用地緊張時,以摩天大樓取代獨棟房屋一樣。HBM正是通過垂直堆疊多個存儲芯片構建而成。
然而,堆疊超薄芯片面臨極大難題。當芯片厚度減至數十微米,變得比頭發絲還細時,多層堆疊便極易誘發彎曲、翹曲甚至斷裂。隨著層數增加,堆疊難度顯著提升。
為突破上述局限,團隊將轉移印刷與原位黏合兩種技術融合在同一個工藝平台上。轉移印刷負責將芯片精准放置到目標位置﹔原位黏合則使芯片在轉移過程中同步完成鍵合。這一集成方法使芯片的轉移、放置和電氣互聯一氣呵成。
為驗証新工藝,團隊制備了厚度約14微米的超薄硅芯片,每片都集成垂直電信號路徑和橫向再分配布線,這種結構極其適合多層集成。利用該工藝,在低溫(低於180℃)和低壓(低於2萬帕斯卡)的溫和條件下,成功堆疊了10余片超薄芯片。結果顯示,即便多次堆疊之后,層間對准誤差依然極小,結構翹曲也被顯著抑制,所得的集成密度(總封裝厚度)內可堆疊的芯片層數約是傳統12層HBM結構的4倍。換句話說,在同樣垂直高度內,能夠容納數倍於以往的芯片。
這項技術一旦商業化,將極大提升給定空間內的芯片集成度,從而顯著增強AI半導體的性能,因此有望成為未來高性能AI芯片與下一代存儲系統的關鍵技術。此外,該技術還可拓展至基於小芯片的異構集成和下一代微型LED顯示器,展現出廣闊的應用前景。
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