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全球首顆二維-硅基混合架構閃存芯片問世

本報記者 顏維琦 通訊員 華亭
2025年10月13日08:06 | 來源:光明日報
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記者從復旦大學獲悉,繼今年4月推出“破曉”二維閃存原型器件,實現400皮秒(1皮秒等於一萬億分之一秒)超高速非易失存儲,為打破算力發展困境提供底層原理后,時隔半年,該校集成芯片與系統全國重點實驗室周鵬-劉春森團隊在這一領域再獲裡程碑式突破。日前,《自然》期刊發表了該團隊的最新研究進展。其研發的“長纓(CY-01)”架構將“破曉”與成熟硅基CMOS(互補金屬氧化半導體)工藝深度融合,率先研發出全球首顆二維-硅基混合架構芯片,不僅攻克了新型二維信息器件工程化的關鍵難題,也為推動信息技術邁入全新高速時代提供強力支撐。

作為集成電路的前沿領域,二維電子學在近年來獲得諸多關注,然而,如何加速產業化進程,讓二維電子器件走向功能芯片?團隊認為,要加快新技術孵化,就要將二維超快閃存器件充分融入CMOS傳統半導體產線,這也能為CMOS技術帶來全新突破。團隊前期經歷了5年的探索試錯,在單個器件、集成工藝等多點協同攻關。團隊的第一項集成工作發表於2024年的《自然·電子學》,為此后的研究工作奠定了基礎。

“二維半導體作為一種全新的材料體系,在國際上所有的集成電路制造工廠裡都是不存在的。一旦引入新材料,就有可能對其他電子器件產生不可估量的影響,導致產線被污染,這是所有芯片廠商都無法接受的。”周鵬介紹。

如何將二維材料與CMOS集成又不破壞其性能?團隊決定從本身就具有一定柔性的二維材料入手,通過模塊化的集成方案,先將二維存儲電路與成熟CMOS電路分離制造,再與CMOS控制電路通過高密度單片互連技術實現完整芯片集成。正是這項核心工藝的創新,在原子尺度上實現了二維材料和CMOS襯底的緊密貼合,最終實現超過94%的芯片良率。團隊進一步提出了跨平台系統設計方法論,包含二維-CMOS電路協同設計、二維-CMOS跨平台接口設計等,並將這一系統集成框架命名為“長纓(CY-01)”架構。

據了解,團隊下一步計劃建立實驗基地,與相關機構合作,建立自主主導的工程化項目,並計劃用3至5年時間將項目集成到兆量級水平。“這是中國集成電路領域的‘源技術’,使我國在下一代存儲核心技術領域掌握主動權。”周鵬說。

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(責編:邢鄭、孫娜)

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